Mitutoyo三豐物鏡378-839-5

 明視場用紫外區(qū)校正 物鏡
M Plan UV

 ·無限遠校正
·明視場觀察及激光加工用
·長工作距離
·平場規(guī)格
· 對紫外區(qū)(波長266nm)和可見區(qū)(常用觀察波長區(qū))進行
了校正設(shè)計。
重點保證了紫外區(qū)的高透射率

 品 名貨號
數(shù)值孔徑
NA
工作距離
WD(mm)
焦距
f(mm) 分辨力
R(μm)
物鏡單體的焦深
±D.F.(μm)
實際視場(mm) 重量
f266 f550 ø24目鏡 (g) 1/2型
相機 (縱×橫)
M Plan UV
M Plan UV 10× 378-844-15 0.25 20.0 20 20.3 1.1 4.4 2.4 0.48×0.64 310
M Plan UV 20× 378-837-8 0.37 15.0 10 10.4 0.7 2.1 1.2 0.24×0.32 370
M Plan UV 50× 378-838-8 0.41 12.0 4 4.2 0.7 1.6 0.48 0.10×0.13 400
M Plan UV 80× 378-839-5 0.55 10.0 2.5 2.9 0.5 0.9 0.3 0.06×0.08 380
 結(jié)合使用顯微鏡和YAG激光，在試料上投影掩模圖像時，掩模圖像會縮小到f/200(本公司鏡筒透鏡，焦距f＝200mm)倍投影，由于f550＞f266，因此紫外光(波長266nm)的加工面積略小于可
見光(波長550nm)的掩模圖像。

 上述規(guī)格欄中的分辨力和物鏡單體焦深是根據(jù)基準波長(λ＝0.55μm)計算得出的值

 注:
這些紫外校正物鏡設(shè)計*，即便當所使用的波長
在可視區(qū)(l = 550nm)至紫外區(qū)(l = 266nm)的任一范圍
內(nèi)發(fā)生變化時，也可在焦深范圍內(nèi)對工件圖像進行
聚焦。因此， M Plan UV系列使用高頻激光束適用
于激光修復(fù)

 顯微鏡
觀察、測量和處理系統(tǒng)化的顯微鏡陣容

VMU
378 系列 — 視頻顯微鏡系統(tǒng)

 緊湊輕量型顯微鏡，相機觀察型。適于
檢測金屬表面、半導體、液晶面板、樹脂等。
• 多種鏡體通常用作適用于專業(yè)器械的OEM
(原廠委制) 產(chǎn)品，如那些利用YAG (近紅外、
可見、近紫外或紫外) 激光* 對半導體晶片
進行檢測和修補的設(shè)備。
* 不保證激光系統(tǒng)產(chǎn)品的性能和安全性。
應(yīng)用：切割、修整、校正、 給半導體電路做
標記/ 薄膜(絕緣膜) 清潔與加工、液晶彩色
濾光器的修復(fù) (校正錯誤)。還可用作光學觀
察剖面圖以便探頭分析半導體故障。
• 對于VMU-LB 和 VMU-LB， 顯微鏡主件的剛度
和總體性能與之前的型號相比已有所提高

 Mitutoyo三豐物鏡378-839-5