BD Plan Apo 10×378-833-7明暗視場用物鏡
明暗視場用物鏡
BD Plan Apo /
BD Plan Apo HR

BD Plan Apo 10×378-833-7明暗視場用物鏡

 ·無限遠(yuǎn)校正
·明視場觀察及暗視場觀察用
適用于觀察檢測對象表面的劃痕或凹凸等。
·長工作距離
·平場復(fù)消色差規(guī)格

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BD Plan Apo
BD Plan Apo 2× ※1 378-831-7 0.055 34.0 100 5.0 91 12 2.4×3.2 340
BD Plan Apo 5× 378-832-7 0.14 34.0 40 2.0 14 4.8 0.96×1.28 350
BD Plan Apo 7.5× 378-830-7 0.21 34.0 26.67 1.3 6.2 3.6 0.64×0.85 350
BD Plan Apo 10× 378-833-7 0.28 34.0 20 1.0 3.5 2.4 0.48×0.64 350
BD Plan Apo 20× 378-834-7 0.42 20.0 10 0.7 1.6 1.2 0.24×0.32 400
BD Plan Apo 50× 378-835-7 0.55 13.0 4 0.5 0.9 0.48 0.10×0.13 440
BD Plan Apo 100× 378-836-7 0.70 6.0 2 0.4 0.6 0.24 0.05×0.06 460
 

NA=Numerical Aperture的略語
數(shù)值孔徑NA是決定物鏡分辨力、焦深、圖像亮度的重要數(shù)值。
數(shù)值孔徑NA通過下列公式來表示，其數(shù)值越大，就越能得到高分辨力、焦深淺的圖像
n是物鏡頂端與工件之間的媒介具有的屈光率，在空氣中n=1.0。是通過物鏡外側(cè)的光線與鏡頭中心（光軸）之間形成的角度
R=Resolving power的略語
能夠?qū)㈦x得很近的點或線區(qū)分開來的小間隔叫做分辨力，表示解像度的極限。
分辨力(R)由數(shù)值孔徑NA和波長(λ)來決定
W.D.=Working Distance的略語
是指對準(zhǔn)焦點時從試樣上表面到物鏡前端的距離
齊焦距離
是指對準(zhǔn)焦點時，從試樣上表面到物鏡安裝位置的距離

無限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
把使用物鏡和成像鏡頭成像的光學(xué)系統(tǒng)叫做無限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)

有限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
單獨用物鏡成像于有限的位置上的光學(xué)系統(tǒng)叫做有限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)
f=focal length的略語
主點到焦點的距離。f1是物鏡的焦點距離，f2是成像鏡頭的焦距。由物鏡與成像鏡頭的焦距比決定倍率（無限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)）
焦點
光學(xué)系統(tǒng)中相對于無限遠(yuǎn)物點的共軛點。
物方空間中有無限遠(yuǎn)物點的焦點叫做像方焦點。像方空間中有無限遠(yuǎn)物點的焦點叫做物方焦點。
物方焦點也叫前聚焦點，像方焦點也叫后聚焦點

緊湊、輕巧的相機(jī)觀察顯微鏡
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運(yùn)動物體等各種觀察對象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細(xì)加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統(tǒng)的綜合性能和安全性。
半導(dǎo)體電路的切割、修整、修正、打標(biāo)、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(fù)(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學(xué)系統(tǒng)※
硅類的內(nèi)部觀察、紅外光譜特征分析等?！硇杓t外光源和紅外攝像機(jī)等。
·反射照明光學(xué)系統(tǒng)標(biāo)配帶孔徑光闌遠(yuǎn)心照明
需要均勻照明的圖像處理?？捎糜诔叽鐪y量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強(qiáng)化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產(chǎn)品相比)
·除標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格外，還可按照需求設(shè)計制作雙相機(jī)、雙倍率(低倍率、高倍率)等產(chǎn)品

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